上海真空镀膜设备的保养

【离子镀膜法之直流二极型(DCIP)】： 直流二极型(DCIP):利用电阻或电子束加热使膜材气化；被镀基体作为阴极，利用高电压直流辉光放电将充入的气体氩(Ar)(也可充少量反应气体)离化。这种方法的特点是：基板温升大、绕射性好、附着性好，膜结构及形貌差，若用电子束加热必须用差压板；可用于镀耐腐蚀润滑机械制品。 【离子镀膜法之多阴极型】： 多阴极型:利用电阻或电子束加热使膜材气化；依靠热电子、阴极发射的电子及辉光放电使充入的真空惰性气体或反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，有时需要对基板加热；可用于镀精密机械制品、电子器件装饰品。真空镀膜设备升级改造。上海真空镀膜设备的保养

【真空镀膜二极溅射与磁控溅射对比】： 靶材利用率（TU）：是指发生溅射的靶材质量占原靶材质量的比率。 公式表示：靶材利用率={原靶材质量（Kg）—溅射后靶材质量}/原靶材质量 注：①：磁控溅射靶材利用率稍低，电压要求低，电流会高，溅射率提高，增加生产效率，降低成本。 ②：靶材使用寿命结素之前必须及时更换新靶材，防止靶材周围物质发生溅射（金属箔片、连接片、阴极） 两种溅射技术的区别： ①：靶材利用率不同 ②：溅射腔室和阴极设计要求不同 ③：放电电流和放电电压不同 ④：溅射率不同：磁控溅射有更短的沉积时间，更高的沉积量和更短沉积周期。四川真空镀膜设备 维修真空镀膜设备哪个牌子的好？

【真空镀膜设备使用步骤】1电控柜的操作1)开水泵、气源2)开总电源3)开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。4)开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。5)观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。2DEF-6B电子枪电源柜的操作1)打开总电源2)同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。3)开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。3关机顺序1)关高真空表头、关分子泵。2)待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。3)到50以下时，再关维持泵。

【磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法】设备包含真空镀膜室、磁控溅射靶组件、立式旋转鼓，真空镀膜室为立式圆筒形结构，立式旋转鼓位于真空镀膜室内，绕垂直轴线旋转，立式旋转鼓中心设置有旋转密封箱，旋转密封箱内设置有膜厚测量仪表，旋转密封箱的上部连接有旋转轴，旋转密封箱内的气氛与真空镀膜室隔离。多组磁控溅射靶组件设置在立式旋转鼓wai围的真空镀膜室的侧壁上。镀膜方法包括将需要镀膜的工件装卡到镀膜设备的立式旋转鼓的侧面，对镀膜设备抽真空；转动立式旋转鼓达到设定的转速；启动射频离子源；交替启动第一种材料的磁控靶靶和第二种材料的磁控靶，按工艺要求镀制膜层。关于真空镀膜设备，你知道多少？

【真空镀膜设备的分类】：这个问题如果在十年之前，其实是很容易回答的，就是两个大类，物理沉积设备和化学沉积设备。现在这样回答也是没错的，但现在再这样回答就没办法把事情说清楚了，所以从应用领域上可以分成以下几类：传统光学器件（镜片，滤光片）所用的镀膜设备：单腔体或多腔体蒸发式镀膜设备，溅射式镀膜设备。新材料领域的柔性设备：卷对卷柔性镀膜设备。光通讯行业：离子束溅射镀膜设备。半导体及相似工艺：化学气相沉积设备。功能膜：多弧离子镀设备，溅射设备，蒸发设备玻璃工艺：溅射式连续线其余的就得归到“工艺定制设备”这个范围里面了，例如车灯镀膜设备，太阳能的共蒸发设备，光纤镀膜设备，太阳能管设备等等真空镀膜机参数怎么调？四川真空镀膜设备 维修

真空镀膜设备主要用途？上海真空镀膜设备的保养

真空镀膜机按镀膜方式主要可分为：蒸发式镀膜，磁控溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜工作原理是将膜材置于真空镀膜室内，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室的线性尺寸，蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的冲击与阻碍，可直接到达被镀的基片表面，由于基片温度较低，便凝结其上而成膜。溅射镀膜的形成是利用真空辉光放电，加速正离子使其轰击靶材表面引起的溅射现象，使靶材表面放出的粒子沉积到基片上而形成薄膜。上海真空镀膜设备的保养